共焦磁控磁控溅射系统
1、设备特点：全自动程序控制实现“一键”完成，采用共焦式溅射结构，结构紧凑，功能全面，操作界面友好，稳定可靠，适合于研发及小批量生产需要；
2、设备组成：单片/多片进样室、工艺腔室、溅射系统、真空系统、加热/冷却系统、气体传输系统、基片预清洗系统、全自动程序控制系统等；
3、溅射方式：直流溅射、射频溅射、共溅射、反应溅射；
4、溅射材料：非磁性金属材料、磁性金属材料（铁、钴、镍等）、不导电材料；
5、型号：YNS-450/YNS-530/YNS-600/YNS-800；
6、区别简述：
YNS-450真空室边长450mm，安装3个直径2英寸靶枪，工件盘直径4英寸；
YNS-530真空室边长530mm，安装4个直径3英寸靶枪，工件盘直径6英寸；
YNS-600真空室边长600mm，安装4个直径4英寸靶枪，工件盘直径9英寸；
YNS-800真空室边长800mm，安装四个直径6英寸靶枪，工件盘直径13英寸；
2、设备组成：单片/多片进样室、工艺腔室、溅射系统、真空系统、加热/冷却系统、气体传输系统、基片预清洗系统、全自动程序控制系统等；
3、溅射方式：直流溅射、射频溅射、共溅射、反应溅射；
4、溅射材料：非磁性金属材料、磁性金属材料（铁、钴、镍等）、不导电材料；
5、型号：YNS-450/YNS-530/YNS-600/YNS-800；
6、区别简述：
YNS-450真空室边长450mm，安装3个直径2英寸靶枪，工件盘直径4英寸；
YNS-530真空室边长530mm，安装4个直径3英寸靶枪，工件盘直径6英寸；
YNS-600真空室边长600mm，安装4个直径4英寸靶枪，工件盘直径9英寸；
YNS-800真空室边长800mm，安装四个直径6英寸靶枪，工件盘直径13英寸；
共焦磁控溅射系统：
1、设备特点：全自动程序控制实现“一键”完成，采用共焦式溅射结构，结构紧凑，功能全面，操作界面友好，稳定可靠，适合于研发及小批量生产需要；
2、设备组成：单片/多片进样室、工艺腔室、溅射系统、真空系统、加热/冷却系统、气体传输系统、基片预清洗系统、全自动程序控制系统等；
3、溅射方式：直流溅射、射频溅射、共溅射、反应溅射；
4、溅射材料：非磁性金属材料、磁性金属材料（铁、钴、镍等）、不导电材料；
5、型号：YNS-450/YNS-530/YNS-600/YNS-800；
6、区别简述：
YNS-450真空室边长450mm，安装3个直径2英寸靶枪，工件盘直径4英寸；
YNS-530真空室边长530mm，安装4个直径3英寸靶枪，工件盘直径6英寸；
YNS-600真空室边长600mm，安装4个直径4英寸靶枪，工件盘直径9英寸；
YNS-800真空室边长800mm，安装四个直径6英寸靶枪，工件盘直径13英寸；
YNS-800真空室800mm共焦磁控溅射系统
